真空鍍膜加工
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直流電偏壓和真空鍍膜加工的比較

2020-01-08 16:31:45

直流電偏壓和脈沖偏壓的比較

傳統式的電孤等離子噴涂是在基片臺子上釋放直流電負偏壓操縱離子轟擊動能,這類沉積加工工藝存有下列缺陷:

直流電偏壓和真空鍍膜加工的比較

基體溫高,不利PVD電鍍廠在淬火溫度低的基體上沉積硬質的膜。

源能離子轟擊導致比較嚴重的無心插柳,不可以簡易根據提升離子轟擊動能合出高反映閾能的硬質的塑料薄膜。

直流電偏壓電孤等離子噴涂加工工藝中,以便抑止因離子對基體表面持續負電子而造成的基體溫度過高,關鍵采用降低沉積輸出功率、減少沉積時間、選用間歇性沉積方法等對策來減少沉積溫度,這種對策能夠 PVD鍍膜廠歸納地稱之為動能控制法'這類方式 盡管能夠 減少沉積溫度,但也使塑料薄膜的一些特性降低,另外還減少了生產率和塑料薄膜品質的可靠性,因而,真空鍍膜廠無法應用推廣。

脈沖偏壓電孤等離子噴涂加工工藝中,因為電離要以非持續的脈沖方法負電子基體表面,因此根據調整脈沖偏壓的占空比,可更改基體內部與表面中間的溫度系數,從而更改基體內部與表面中間熱的平衡賠償實際效果,超過管控沉積溫度的目地。那樣就能夠 把釋放偏壓的脈沖高寬比與鋼件溫度單獨分離(互相危害或危害不大)調整,運用髙壓脈沖來得到源能電離的負電子效用以改進塑料薄膜的機構和特性,根據減少占空比來減少離子轟擊的總加溫效用以減少沉積溫度。


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